西格瑪光機強激光用電介質(zhì)膜反射鏡適用于高功率，脈沖Nd-YAG激光（或Yb-YLF激光）或準分子激光的光學(xué)系統(tǒng)的反射鏡。

西格瑪光機強激光用電介質(zhì)膜反射鏡

通用指標：

材質(zhì)　　　　　　BK7

鍍膜　　　　　　多層電介質(zhì)膜

入射角度　　　　45°±3°

基板面型精度　　λ/10

平行度　　　　?。?′

表面質(zhì)量　　　　10-5

有效直徑　　　　外徑的90%

反面　　　　　　光學(xué)拋光

特點：

●可以提供用于YAG激光器的，從基波（1064nm）到4次諧波（266nm）的反射鏡和ArF（193nm），KrF（248nm）的準分子激光用的反射鏡。

●反射率高，經(jīng)過多個反射鏡反射后，光量也不會衰減很多。

●使用吸收小的電介質(zhì)膜，可以承受大功率激光的連續(xù)照射。

信息：

>>>承接制造產(chǎn)品目錄之外的其他尺寸或波長特性的反射鏡。請利用客戶問詢單。 

>>>也可以在低散亂基板上鍍強激光用多層電介質(zhì)膜。

>>>激光損傷閾值根據(jù)ISO21254的200on1進行試驗。（參考 光學(xué)數(shù)據(jù)＞激光損傷閾值）

>>>備有保證鍍膜后面精度的反射鏡（HTFM）。

注意：

1.使用前，請確認入射激光光束的能量密度不要超過激光損傷閾值。

2.通過透鏡或凹面反射使激光光束變細后入射時，可能有能量密度超過激光損傷閾值，反射鏡受破損的危險。

3.入射光束的光量很大的時候，光束可能透過反射鏡（透過率1%以下）。請務(wù)必在反射鏡的反面遮擋散亂光。

4.紫外譜區(qū)的反射鏡有產(chǎn)生熒光的可能。對反射鏡熒光有疑問的客戶請至芬創(chuàng)商城聯(lián)系我們。

5.多層電介質(zhì)膜因為入射光束的偏光狀態(tài)不同其反射率波長特性將會有改變。P偏光與S偏光相比，反射率變低，反射譜區(qū)變窄。

6.技術(shù)指標的反射率是用P偏光和S偏光的反射率的平均值來表示的。

7.在設(shè)計波長以外的波長區(qū)域使用時，反射率有可能降低。